前段時間，“光刻膠”概念在市場上受到關注，作爲關鍵性電子化學(xué)品之一，光刻膠是實現半導體材料國(guó)産替代的重點領域，那麼(me)目前中國(guó)本土光刻膠發(fā)展現狀如何？本土企業的光刻膠産品或項目有何新動态？
據了解，光刻膠是國(guó)際上技術門檻最高的微電子化學(xué)品之一，其技術原理是利用光化學(xué)反應經(jīng)光刻工藝將(jiāng)所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質。在光刻工藝中，光刻膠被均勻塗布在矽片、玻璃和金屬等不同的襯底上，經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序將(jiāng)掩膜版上的圖形轉移到薄膜上，形成(chéng)與掩膜版完全對(duì)應的幾何圖形。
按顯示的效果，光刻膠可分爲正性光刻膠和負性光刻膠；按應用的領域，光刻膠可分爲半導體用光刻膠、平闆顯示用光刻膠、PCB光刻膠。其中，爲适應集成(chéng)電路線寬不斷縮小的要求，半導體用光刻膠波長(cháng)由紫外寬譜向(xiàng)g線（436nm）→i線（365nm）→KrF（248nm）→ArF（193nm）→F2（157nm）的方向(xiàng)轉移，通過(guò)分辨率增強技術不斷提升光刻膠的分辨率水平。
目前，全球主要光刻膠企業有日本合成(chéng)橡膠（JSR）、東京應化（TOK）、住友化學(xué)、信越化學(xué)、美國(guó)羅門哈斯等，市場高度集中。我國(guó)光刻膠産業發(fā)展緩慢，光刻膠生産及研發(fā)水平與國(guó)際差距較大，主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等産品，技術壁壘較高的半導體用光刻膠仍需依賴進(jìn)口，尤其在高端光刻膠方面(miàn)仍處空白。
不過(guò)，随着近年來國(guó)内半導體産業發(fā)展迅猛，國(guó)産光刻膠企業也正在發(fā)力追趕，國(guó)内研發(fā)生産光刻膠的企業主要有晶瑞股份、北京科華、南大光電、上海新陽、容大感光、飛凱材料等，目前晶瑞股份旗下子公司蘇州瑞紅和北京科華可規模量産半導體用光刻膠，但總體來說國(guó)産半導體用光刻膠發(fā)展之路任重道(dào)遠。
近期，光刻膠受到了市場重點關注，多家企業亦披露了各自光刻膠産品的發(fā)展情況，下面(miàn)來看看國(guó)内半導體用光刻膠的最新動态。
晶瑞股份
晶瑞股份是一家微電子材料企業，主導産品包括超淨高純試劑、光刻膠、功能(néng)性材料、锂電池材料和基礎化工材料等，其中光刻膠産品主要由其子公司蘇州瑞紅生産。據介紹，蘇州瑞紅1993年開(kāi)始光刻膠生産，是國(guó)内最早規模量産光刻膠的少數幾家企業之一。
根據晶瑞股份2019年年報，蘇州瑞紅紫外負型光刻膠和寬譜正膠及部分g線等高端産品已規模供應市場數十年，承擔并完成(chéng)了國(guó)家重大科技項目02重大專項“i線光刻膠産品開(kāi)發(fā)及産業化”項目，其i線光刻膠已向(xiàng)合肥長(cháng)鑫、士蘭微、揚傑科技、福順微電子等行業頭部公司供貨。
晶瑞股份表示，蘇州瑞紅KrF（248nm深紫外）光刻膠完成(chéng)中試，産品分辨率達到了0.25～0.13μm的技術要求，建成(chéng)了中試示範線。
南大光電
南大光電專業從事(shì)高純電子材料的研發(fā)、生産和銷售，現已形成(chéng)了MO源、電子特氣、ALD/CVD前驅體材料和光刻膠四大業務闆塊。其中，在光刻膠方面(miàn)，南大光電正在自主研發(fā)和産業化的193nm光刻膠項目，已獲得國(guó)家02專項“193nm光刻膠及配套材料關鍵技術開(kāi)發(fā)項目”和“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和産業化項目”的正式立項。
根據2019年年報顯示，南大光電“193nm光刻膠及配套材料關鍵技術開(kāi)發(fā)項目”的研發(fā)工作已經(jīng)完成(chéng)，正在驗收中。此外，公司設立光刻膠事(shì)業部，并由子公司甯波南大光電全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和産業化項目”的落地實施。
5月27日，南大光電公告表示，“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和産業化項目”的基礎建設按計劃進(jìn)行；2019年底完成(chéng)一條生産線的安裝，正在調試階段。2020年4月，公司采購的用于檢測ArF（193nm）光刻膠産品性能(néng)的光刻機運入甯波南大光電工廠，5月開(kāi)始進(jìn)行安裝調試，預計安裝調試需要4-5個月的時間。公司同時自主研發(fā)制備ArF（193nm）光刻膠用的高純原材料，研制出的ArF（193nm）光刻膠樣品正在供客戶測試。
6月3日，南大光電表示，目前“ArF光刻膠産品的開(kāi)發(fā)和産業化項目”尚處于光刻膠樣品驗證階段，驗證過(guò)程預計需要12-18個月，甚至更長(cháng)的時間。
上海新陽
2016年底，上海新陽立項開(kāi)發(fā)集成(chéng)電路制造用高端光刻膠。根據上海新陽2019年年報，其已研發(fā)獲得多個KrF厚膜、ArF幹法光刻膠産品配方、工藝數據和技術參數，得到了多次可重複的實驗室曝光結果，關鍵曝光參數已經(jīng)達到了光刻生産工藝對(duì)商用光刻膠可以進(jìn)行中試産品驗證的基本要求。
5月8日，上海新陽在2019年度網上業績說明會上表示，公司KrF厚膜光刻膠配套的光刻機一季度已完成(chéng)安裝調試，目前進(jìn)入試運行階段，KrF厚膜中試産線在安裝調試建設當中，光刻膠産品還(hái)處于實驗室研發(fā)和中試開(kāi)發(fā)階段。
5月26日，上海新陽在投資者互動平台上表示，公司光刻膠已完成(chéng)實驗室研發(fā)，準備開(kāi)始進(jìn)行200L反應釜的中試，在建項目規劃産能(néng)爲500噸/年。
容大感光
容大感光緻力于PCB感光油墨、光刻膠及配套化學(xué)品、特種(zhǒng)油墨等電子化學(xué)品的研發(fā)、生産和銷售，光刻膠産品主要包括紫外線正膠、紫外線負膠兩(liǎng)大類産品以及稀釋劑、顯影液、剝離液等配套化學(xué)品，主要應用于平闆顯示、發(fā)光二極管及集成(chéng)電路等領域。
據了解，容大感光的光刻膠業務營收占比較小，其産品應用領域更多集中在平闆顯示合LED芯片。5月27日，容大感光在投資者互動平台上表示，公司目前可生産的半導體光刻膠主要爲g/i線正性光刻膠、i線負性光刻膠、i線厚膜膠等，主要包括RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL系列等。
此外，容大感光大亞灣光刻膠及其配套化學(xué)品募投項目設計的生産能(néng)力爲年産1000噸，投産後(hòu)的主要産品是用于平闆顯示、發(fā)光二極管、集成(chéng)電路芯片等領域的光刻膠，類别爲g/i線正性光刻膠、負性光刻膠，i線正性光刻膠的分辨率爲0.35微米。今年5月中旬，容大感光回複深交所關注涵表示，該項目所有設備已安裝調試完畢。
飛凱材料
飛凱材料的主營業務産品主要包括紫外固化材料和電子化學(xué)材料，電子化學(xué)材料主要包括應用于半導體制造及先進(jìn)封裝領域的濕制程電子化學(xué)品如顯影液、蝕刻液、剝離液、電鍍液等，用于集成(chéng)電路傳統封裝領域的錫球、環氧塑封料，用于TFT-LCD液晶顯示面(miàn)闆制造領域的正性光刻膠、TN/STN型混合液晶、TFT型混合液晶、液晶單體及液晶中間體、用于OLED屏幕制造領域的配套材料等新材料。
在光刻膠方面(miàn)，2019年飛凱材料的5000t/aTFT-LCD光刻膠項目順利試生産，今年6月1日飛凱材料在投資者平台上表示，公司TFT-LCD正性光刻膠目前處于試生産過(guò)程中，且近期出貨量也在穩步提升。
至于半導體用光刻膠，飛凱材料表示，公司i-line半導體光刻膠實驗室階段産品正在做客戶送樣驗證前的準備工作。
