海太半導體與SK海力士三期合作簽約

海太半導體與SK海力士三期合作簽約

近日,海太半導體與韓國(guó)SK海力士三期合作意向(xiàng)書簽約儀式在無錫舉行。

自2004年在無錫建成(chéng)投産以來,經(jīng)過(guò)十五年的發(fā)展,SK海力士已發(fā)展成(chéng)爲江蘇省單體投資規模最大、技術水平最高、發(fā)展速度最快的外資投資企業。

而海太半導體是由無錫市太極實業股份有限公司和韓國(guó)SK海力士株式會社合資成(chéng)立的半導體封裝測試企業,注冊資本1.75億美元,總投資4億美元。海太半導體自2009年11月10日正式成(chéng)立以來,經(jīng)過(guò)十年的穩步發(fā)展,已成(chéng)爲國(guó)内知名半導體封裝測試企業,并逐步發(fā)展成(chéng)爲全球封裝測試産業一股重要的新興力量。

據無錫國(guó)家高新技術産業開(kāi)發(fā)區報道(dào),海太半導體通過(guò)産品結構優化,産線技術升級等多項措施,單月封裝能(néng)力已超過(guò)12億Gb容量,全年産能(néng)約占全球DRAM封裝測試産能(néng)的13%。此次簽約标志着雙方將(jiāng)在DRAM封裝領域繼續保持穩固的戰略合作夥伴關系,加強優勢互補,促進(jìn)互利共赢。

無錫市政府副市長(cháng)、高新區黨工委書記、新吳區委書記王進(jìn)健表示,無錫高新區將(jiāng)進(jìn)一步深化與SK海力士多方面(miàn)、多領域的合作,全力推動SK科技園、學(xué)校、醫院、基金等項目的進(jìn)展,繼續爲SK海力士在錫發(fā)展創造最佳的營商環境、提供最優的政府服務,推動SK海力士在錫做大做強。

海太半導體與SK海力士三期合作簽約

海太半導體與SK海力士三期合作簽約

近日,海太半導體與韓國(guó)SK海力士三期合作意向(xiàng)書簽約儀式在無錫舉行。

自2004年在無錫建成(chéng)投産以來,經(jīng)過(guò)十五年的發(fā)展,SK海力士已發(fā)展成(chéng)爲江蘇省單體投資規模最大、技術水平最高、發(fā)展速度最快的外資投資企業。

而海太半導體是由無錫市太極實業股份有限公司和韓國(guó)SK海力士株式會社合資成(chéng)立的半導體封裝測試企業,注冊資本1.75億美元,總投資4億美元。海太半導體自2009年11月10日正式成(chéng)立以來,經(jīng)過(guò)十年的穩步發(fā)展,已成(chéng)爲國(guó)内知名半導體封裝測試企業,并逐步發(fā)展成(chéng)爲全球封裝測試産業一股重要的新興力量。

據無錫國(guó)家高新技術産業開(kāi)發(fā)區報道(dào),海太半導體通過(guò)産品結構優化,産線技術升級等多項措施,單月封裝能(néng)力已超過(guò)12億Gb容量,全年産能(néng)約占全球DRAM封裝測試産能(néng)的13%。此次簽約标志着雙方將(jiāng)在DRAM封裝領域繼續保持穩固的戰略合作夥伴關系,加強優勢互補,促進(jìn)互利共赢。

無錫市政府副市長(cháng)、高新區黨工委書記、新吳區委書記王進(jìn)健表示,無錫高新區將(jiāng)進(jìn)一步深化與SK海力士多方面(miàn)、多領域的合作,全力推動SK科技園、學(xué)校、醫院、基金等項目的進(jìn)展,繼續爲SK海力士在錫發(fā)展創造最佳的營商環境、提供最優的政府服務,推動SK海力士在錫做大做強。

DRAMeXchange郭祚榮:預估内存價格明年Q2開(kāi)始上漲

DRAMeXchange郭祚榮:預估内存價格明年Q2開(kāi)始上漲

集邦咨詢DRAMeXchange研究副總經(jīng)理:郭祚榮

供給端方面(miàn),郭祚榮分析認爲全球2020年内存市場的年成(chéng)長(cháng)預估僅爲12.2%,這(zhè)個數字在年成(chéng)長(cháng)動辄25%、甚至40%-50%的傳統内存産業是非常低的。三星、SK海力士、美光等内存廠商明年獲利爲主要目标,資本支出也會減少。

具體而言,在标準型内存、服務器内存、行動式内存、繪圖用内存、利基型内存這(zhè)5大類産品中,明年份額比重最大的是行動式内存,占比約39.7%,主要因爲智能(néng)手機本身需求量大,加上明年5G的興起(qǐ)將(jiāng)帶來強勁的換機潮;其次爲服務器内存、占比約爲34.9%,郭祚榮指出,服務器内存的份額比重每年逐步上升,未來3-5年服務器内存的份額比重可能(néng)會超過(guò)行動式内存,成(chéng)爲全部内存産品份額比重最高的産品。

其他産品類别的份額比重情況,PC方面(miàn)(标準型内存)在逐年下降,雖然遊戲電腦的需求在提升,但占比不高;繪圖用内存目前需求還(hái)可以,預估明年狀況會很好(hǎo);利基型内存方面(miàn),每年的增長(cháng)大概是7%-8%。

至于投片情況,郭祚榮指出今年第四季度全球内存廠晶圓投片量預估爲1200多K,明年第四季度預計是1300多K,從投片角度看,明年的成(chéng)長(cháng)隻有5%左右,這(zhè)其實并不高,與明年的供給成(chéng)長(cháng)隻有12.2%相呼應。

其中,三星明年第四季度投片量與今年第四季度投片量相比,成(chéng)長(cháng)隻有大概30K(即3萬片左右),以三星的整體規模看相當于幾乎沒(méi)有新産能(néng)産出;SK海力士的投片量是不增反減,今年第一季度350K、到明年第四季度隻有340K;美光方面(miàn),今年第四季度和明年第四季度相比,投片量相差不多。

雖然投片量沒(méi)有顯著增加,但爲何明年供給端仍有12.2%的年成(chéng)長(cháng)?郭祚榮表示這(zhè)是因爲制程上的提升增加了顆粒的産出量。明年三星、SK海力士、美光等全球三大廠商的産出量仍有成(chéng)長(cháng),三星預估成(chéng)長(cháng)12.6%,SK海力士由于今年轉1Ynm不順、把量轉到明年,因此明年預估有14.1%的成(chéng)長(cháng),美光預估成(chéng)長(cháng)10.3%。

制程轉進(jìn)方面(miàn),三星大部分供應已集中在1Xnm,1Ynm也有17%,明年三星將(jiāng)繼續轉1Ynm,1Xnm則會繼續減少。目前,三星也有在做1Znm産品,但還(hái)是會先轉1Ynm,1Znm的轉進(jìn)會視後(hòu)面(miàn)市場情況決定。

郭祚榮認爲,制程最先進(jìn)的是三星、SK海力士次之、美光第三。但據其了解到的新信息,美光的1Znm制程工藝十分先進(jìn),甚至可跟三星齊頭并進(jìn),有可能(néng)在明年或者後(hòu)年、在1Znm變成(chéng)規模較大時,可能(néng)是美光制程工藝的反轉點。

再看需求端,郭祚榮分析認爲,明年全球内存需求端仍出現微幅衰退,其中筆記本將(jiāng)衰退0.6%、PC將(jiāng)衰退0.7%;服務器和智能(néng)手機是明年唯二呈現成(chéng)長(cháng)趨勢的産品類别,其中服務器這(zhè)幾年都(dōu)在上升,明年將(jiāng)成(chéng)長(cháng)3.8%;智能(néng)手機今年是負4%,明年預計爲0.1%。

具體而言,全球2020年内存需求達17.5%,其中智能(néng)手機和服務器的需求比重最大,無論是今年或是明年,兩(liǎng)者需求比重總和都(dōu)占據了總需求七成(chéng)左右份額,其他如PC比重將(jiāng)越來越低,利基市場大概每年維持差不多的比重。

根據全球内存供需狀況分析,2020年Demand bit Growth預計增長(cháng)17.6%、Supply Bit Growth預計增長(cháng)12.2%,Sufficiency ratio則有0.5%的增長(cháng),價格有可能(néng)會反轉;今年價格跌了將(jiāng)近50%-60%,這(zhè)是因爲目前供過(guò)于求將(jiāng)近5.4%,對(duì)市場來講是十分嚴峻的。

以PC DRAM DDR4 8GB産品爲例,今年年初價格爲50元,到今年年底預計價格隻剩24元,價格下跌近一半。郭祚榮認爲,明年第一季度内存價格呈現小跌的可能(néng)性較高,但這(zhè)并不影響明年下半年的價格趨勢,畢竟供給真的有所減少,其預估内存價格在明年第二季度會開(kāi)始反彈,一直延續到年底,但明年全年可能(néng)也隻漲20%-30%。

具體到各類别産品,郭祚榮預估明年漲幅最高的内存産品應該是PC DRAM和Graphic DRAM,其次是服務器内存;移動設備方面(miàn),相對(duì)其他的産品要平穩一些,是5大類别産品裡(lǐ)面(miàn)漲幅最小的,另外一個漲幅較小的是利基型産品。

整體而言,郭祚榮預估全部産品的利潤明年至少有20%的上漲、甚至可能(néng)有機會達到30%,但最重要的還(hái)是取決于市場需求狀況。對(duì)于價格,郭祚榮的結論是,明年價格會上漲,最快第二季度可以看到,但不會漲得非常兇或者非常高,將(jiāng)呈現緩漲趨勢。

集邦咨詢于2019年11月27日成(chéng)功舉辦2020存儲産業趨勢峰會(MTS 2020),在此特别感謝金邦科技、芝奇國(guó)際、宏旺半導體、時創意電子、金泰克半導體、紫光存儲、廈門銀行等企業對(duì)本次會議的大力支持。

PS:本次峰會集邦咨詢分析師演講講義現已對(duì)外分享,如有需要請關注“全球半導體觀察”微信公衆号并回複分析師名字即可領取,如“葉茂盛”、“郭祚榮”。同時,歡迎識别下方二維碼或在微信公衆号回複”峰會”觀看峰會完整視頻回放。

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SK海力士量産128層4D NAND 終端産品2020年下半年亮相

SK海力士量産128層4D NAND 終端産品2020年下半年亮相

當前,随着資料量大增,使得當前主流的固态硬盤(SSD)容量也必須越來越大,以應付儲存大量數據的需求。

日前,韓國(guó)存儲器大廠SK海力士就正式宣布量産128層堆疊的4D NAND Flash,正式將(jiāng)SSD的容量進(jìn)行大幅度的升級。

根據外電報導,SK海力士早就在2019年6月份就宣布正式量産128層堆疊的4D NAND Flash,成(chéng)爲全球首家量産128層NAND Flash的存儲器廠商。

而當前SK海力士所宣布,在這(zhè)個月正式向(xiàng)客戶交貨的128層堆疊4D NAND Flash的工程樣品,全部都(dōu)是TB容量等級的高密度解決方案,包括手機所用的1TB UFS 3.1 4D NAND Flash,消費等級的2TB SSD、以及企業級的16TB E1.L規格SSD。

SK海力士宣稱,其新推出的128層堆疊4D NAND Flash的單顆容量爲1TB大小。所以,未來可以做到很大的容量,是業界儲存密度最高的TLC NAND Flash。

報導表示,現在1TB儲存空間的手機,通常需要使用兩(liǎng)顆512GB的UFS NAND Flash,在SK海力士的1TB UFS 3.1 4D NAND Flash正式出貨後(hòu),手機使用NAND Flash的數量就會減少一半,節省更多的手機主機闆空間。

此外,SK海力士這(zhè)顆1TB的4D NAND Flash封裝厚度僅1mm,是未來超薄5G手機的絕佳選擇,預計搭配這(zhè)款4D NAND Flash的手機有望在2020年下半年量産,而搭載128層堆疊4D NAND Flash的2TB消費級SSD,以及16TB的E1.L規格的企業級SSD也預計會在2020年下半年量産。

日首次批準對(duì)韓出口液體氟化氫 或爲牽制韓企發(fā)展?

日首次批準對(duì)韓出口液體氟化氫 或爲牽制韓企發(fā)展?

據韓國(guó)國(guó)際廣播電台(KBS)報道(dào),16日有消息稱,日本政府批準向(xiàng)韓國(guó)三星電子和SK海力士出口,被列爲對(duì)韓出口限制項目之一的液體氟化氫。

液體氟化氫是半導體材料之一。此前,日本政府曾批準對(duì)韓出口三大出口限制項目,包括氟聚酰亞胺(Fluorine Polyimide)、光刻膠(Resist)以及高純度氟化氫(Eatching Gas),但批準對(duì)韓出口液體氟化氫尚屬首次。

報道(dào)指出,到目前爲止,日本政府已12次批準向(xiàng)韓國(guó)出口三大限制項目,但這(zhè)并不能(néng)視爲日方已改變态度。

繼2019年7月宣布對(duì)韓采取出口限制措施後(hòu),日本政府以資料不全爲由,未予批準向(xiàng)三星電子和SK海力士出口液體氟化氫,90天出口審核時限即將(jiāng)到期,若日方未在時限内完成(chéng)審核,或將(jiāng)在世貿組織(WTO)争端解決機制中處于不利地位。報道(dào)稱,這(zhè)被認爲是日本采取批準措施的原因之一。

還(hái)有分析認爲,随着韓國(guó)企業快速實現國(guó)産化,日本政府爲牽制韓企發(fā)展而批準日企出口相關産品。據悉,日本限制對(duì)韓出口已給此次獲準出口液體氟化氫的日企帶來了巨大打擊。

日本政府7月開(kāi)始對(duì)韓國(guó)實行限制出口措施,8月初以安全保障爲由把韓國(guó)從“白名單”國(guó)家中剔除,8月28日零時正式生效。作爲回應,韓國(guó)8月12日決定把日方排除出韓方貿易“白色清單”,8月22日宣布不再與日方續簽《軍事(shì)情報保護協定》。

9月11日,韓國(guó)政府就日本限制對(duì)韓出口一事(shì)向(xiàng)世界貿易組織提起(qǐ)申訴。詳細内容有,日本限制對(duì)韓出口高純度氟化氫、氟聚酰亞胺、光緻抗蝕劑這(zhè)3種(zhǒng)半導體關鍵材料違反《關貿總協定》(GATT)和《貿易便利化協定》(TFA),限制三種(zhǒng)材料技術轉讓有違《與貿易有關的投資措施協議》(TRIMs)和《與貿易有關的知識産權協定》(TRIPS)。

雙方若無法在磋商期内達成(chéng)一緻,世貿組織將(jiāng)爲此設立專家組。

HBM2E開(kāi)啓超高速存儲器半導體新時代

HBM2E開(kāi)啓超高速存儲器半導體新時代

比爾·蓋茨(Bill Gates)在1999年出版的《未來時速》(Business @ the Speed of Thought)一書中描繪了一種(zhǒng)“數字神經(jīng)系統(Digital Nervous System)”,并把它比作爲一個跨越時空界限的互聯世界。基于“數字神經(jīng)系統”這(zhè)一必要條件,他又提出了如何以思維速度(Speed of Thoughts)經(jīng)營企業的想法。這(zhè)在當時看來似乎是不可能(néng)的事(shì),但如今科技的快速進(jìn)步已經(jīng)讓這(zhè)個預言成(chéng)爲可能(néng)。超高速存儲器半導體的時代已經(jīng)來臨,IT技術正向(xiàng)人類大腦的思考速度發(fā)起(qǐ)挑戰。

TSV技術:解鎖HBM無可比拟的“容量和速度”

各大制造商已經(jīng)紛紛引進(jìn)了高帶寬存儲器 (High Bandwidth Memory, 簡稱HBM),采用矽通孔(Through Silicon Via, 簡稱TSV)技術進(jìn)行芯片堆疊,以增加吞吐量并克服單一封裝内帶寬(Bandwidth)的限制。在這(zhè)一趨勢下,SK海力士早在2013年便率先開(kāi)始了HBM的研發(fā),以嘗試提高容量和數據傳輸速率。SK海力士現已充分發(fā)揮了最新HBM2E的潛能(néng),通過(guò)TSV將(jiāng)8個16Gb芯片縱向(xiàng)連接,從而實現了16GB傳輸速率。

TSV由一個電路芯片和一個“Interposer”(即位于電路闆和芯片之間的功能(néng)包)上方的多層DRAM組成(chéng)。簡單來說,TSV可以比喻成(chéng)一幢公寓式建築結構,建築地基(Interposer)上方是社區活動中心(邏輯芯片),再往上是層層疊加的公寓房間(DRAM)。與傳統方法不同,TSV技術就好(hǎo)比在芯片上鑽孔,然後(hòu)一個一個地堆疊起(qǐ)來。作爲一種(zhǒng)封裝技術,它通過(guò)這(zhè)些孔内的導電電極連接芯片,由此數據可以垂直移動,仿佛安裝了一台數據電梯。與傳統的采用金線鍵合技術生産的芯片相比,這(zhè)種(zhǒng)技術連接更短,因而信号路徑更短,具有更低功耗的高速性能(néng)。另外,與傳統方法相比,穿透芯片可以在芯片之間形成(chéng)更多通道(dào)。

從HBM到HBM2E的進(jìn)化

相比依賴于有線處理的DRAM封裝技術,HBM在數據處理速度方面(miàn)顯示出了高度的改良。不同于金線縫合的方式,通過(guò)TSV技術,HBM可將(jiāng)超過(guò)5,000個孔鑽入相互縱向(xiàng)連接的DRAM芯片中。在這(zhè)樣一個快速崛起(qǐ)的行業趨勢下,SK海力士于2019年8月開(kāi)發(fā)出了具有超高速性能(néng)的HBM2E。這(zhè)是目前行業中擁有最高性能(néng)的一項技術。與之前的HBM2标準對(duì)比,HBM2E將(jiāng)提高50%的數據處理速度。由于這(zhè)一高度改良,它將(jiāng)成(chéng)爲新一代HBM DRAM産品。

不同于傳統結構采用模塊形式封裝存儲芯片并在系統闆上進(jìn)行連接,HBM芯片與芯片與圖像處理器(Graphics Processing Unit, 簡稱GPU)和邏輯芯片等處理器緊密地相互連接。在這(zhè)樣一個僅有幾微米單元的距離下,數據可被更快地進(jìn)行傳輸。這(zhè)種(zhǒng)全新的結構在芯片之間創造了更短的路徑,從而更進(jìn)一步加快了數據處理速度。

随着數據不斷增加,對(duì)于高性能(néng)存儲器的需求將(jiāng)在第四次工業革命中持續增長(cháng)。HBM已經(jīng)在GPU中被使用。HBM2E或將(jiāng)成(chéng)爲包括新一代GPU、高性能(néng)計算機處理、雲計算、計算機網絡、以及超級計算機在内等高性能(néng)裝置中的一種(zhǒng)高端存儲器半導體,以滿足這(zhè)些裝置對(duì)于超高速運作這(zhè)一特性的要求。除此之外,HBM2E也將(jiāng)在一些高科技行業中扮演重要角色,例如機器學(xué)習和AI系統等。另外,随着遊戲産業中對(duì)圖形應用的日益擴大,HBM技術的采用也相應增加,以此可以處理大屏幕下更多像素的需求。通過(guò)更高的計算機處理速度,HBM也爲高端遊戲提供了更好(hǎo)的穩定性。

填補日本管制缺口 韓國(guó)自比利時進(jìn)口光阻劑暴增近4.5倍

填補日本管制缺口 韓國(guó)自比利時進(jìn)口光阻劑暴增近4.5倍

根據韓國(guó)媒體報導,三星電子、SK海力士等韓國(guó)半導體企業,目前從比利時引進(jìn)半導體光阻劑(photoresist),順利填補日本出口限制導緻的原料缺口。韓國(guó)産業研究院調查報告指出,有77%的韓國(guó)企業認爲,不會受日韓貿易沖突波及。

根據《ETnews》報導,日本對(duì)韓國(guó)加強出口管制已超過(guò)100天。韓國(guó)關稅廳根據統計指出,2019年第3季從比利時進(jìn)口的光阻劑金額爲459.6萬美元,相較2018年同期的84.1萬美元,高出446%。

值得注意是,從7月開(kāi)始,比利時制光阻劑進(jìn)口量急劇增加,相較6月進(jìn)口金額僅6.6萬美元,7月日本對(duì)韓國(guó)出口限制後(hòu),每個月進(jìn)口金額都(dōu)超過(guò)100萬美元。

報導指出,日本將(jiāng)光阻劑列入對(duì)韓國(guó)的限制産品之後(hòu),三星和SK海力士等企業就積極争取自比利時進(jìn)口。雖然,相關韓國(guó)企業不願證實比利時光阻劑原料的來源,但據了解,光阻劑應是來自日本化學(xué)企業JSR與比利時研究中心IMEC的合資公司RMQC。

韓國(guó)關稅廳公布的光阻劑進(jìn)口金額,也包含通用半導體原料,但大多是EUV技術專用原料。外界解讀,比利時的光阻劑原料已補足韓國(guó)半導體企業對(duì)這(zhè)類産品需求的缺口。

根據統計,2019年第3季,韓國(guó)從比利時進(jìn)口的光阻劑重量約0.9公噸,若換算成(chéng)體積,相當于250~260加侖。業界透露,三星電子每個月需約80加侖EUV用光阻劑,SK海力士則尚未正式引進(jìn)EUV技術制程,因此每個月隻需10加侖以下用量。有分析認爲,韓國(guó)目前進(jìn)口庫存量已能(néng)避免日韓貿易糾紛帶來的影響。

韓國(guó)自比利時進(jìn)口光阻劑暴增近4.5倍 預估足以填補日本管制缺口

韓國(guó)自比利時進(jìn)口光阻劑暴增近4.5倍 預估足以填補日本管制缺口

根據韓國(guó)媒體報導,三星電子、SK海力士等韓國(guó)半導體企業,目前從比利時引進(jìn)半導體光阻劑(photoresist),順利填補日本出口限制導緻的原料缺口。韓國(guó)産業研究院調查報告指出,有77%韓國(guó)企業認爲,不會受日韓貿易沖突波及。

根據《ETnews》報導,日本對(duì)韓國(guó)加強出口管制已超過(guò)100天。韓國(guó)關稅廳根據統計指出,2019年第3季從比利時進(jìn)口的光阻劑金額爲459.6萬美元,相較2018年同期的84.1萬美元,高出446%。特别的是,從7月開(kāi)始,比利時制光阻劑進(jìn)口量急劇增加,相較6月進(jìn)口金額僅6.6萬美元,7月日本對(duì)韓國(guó)出口限制後(hòu),每個月進(jìn)口金額都(dōu)超過(guò)100萬美元。

報導指出,日本將(jiāng)光阻劑列入對(duì)韓國(guó)的限制産品之後(hòu),三星和SK海力士等企業就積極争取自比利時進(jìn)口。

雖然相關韓國(guó)企業不願證實比利時光阻劑原料的來源,但據了解,光阻劑應是來自日本化學(xué)企業JSR與比利時研究中心IMEC的合資公司RMQC。

韓國(guó)關稅廳公布的光阻劑進(jìn)口金額,也包含通用半導體原料,但大多是EUV技術專用原料。外界解讀,比利時的光阻劑原料已補足韓國(guó)半導體企業對(duì)這(zhè)類産品需求的缺口。

根據統計,2019年第3季,韓國(guó)從比利時進(jìn)口的光阻劑重量約0.9公噸,若換算成(chéng)體積,相當于250~260加侖。

業界透露,三星電子每個月需約80加侖EUV用光阻劑,SK海力士則尚未正式引進(jìn)EUV技術制程,因此每個月隻需10加侖以下用量。有分析認爲,韓國(guó)目前進(jìn)口庫存量已能(néng)避免日韓貿易糾紛帶來的影響。

SK海力士公布最新财報 DRAM和NAND Flash各自表現如何?

SK海力士公布最新财報 DRAM和NAND Flash各自表現如何?

10月24日 – SK海力士今日宣布截止2019年9月30日的2019年第三季度财務報告。第三季度結合并收入爲6.84萬億韓元,營業利潤爲4726億韓元,淨利潤爲4955億韓元。本季度的營業利潤率爲7%,淨利潤率爲7%。

第三季度,由于出現恢複需求的動向(xiàng),收入環比增長(cháng)6%,但在收益性方面(miàn),盡管DRAM的單位成(chéng)本降低,但市場價格下降幅度卻沒(méi)有完全抵消,營業利潤環比下降26%。

對(duì)于DRAM,公司積極響應移動新産品,并随着一些數據中心客戶的購買量也所增加,DRAM比特出貨量(bit shipments)環比增加23%,但價格持續疲軟,平均銷售價下降了16%。但是,平均銷售價下降幅度比上一季度有所減少。

對(duì)于NAND閃存,公司積極應對(duì)持續需求複蘇的高容量移動和SSD等解決方案市場,但由于公司減少上一季度暫時增加的單品銷售,導緻比特出貨量環比下降1%。但由于減少了價格相對(duì)較低的單品銷售比重,平均銷售價格環比增長(cháng)了4%。

SK海力士計劃,在滿足日益增長(cháng)的客戶要求的同時,并有效應對(duì)外部不确定性引起(qǐ)的需求波動,將(jiāng)根據市場情況靈活調整生産和投資。

SK海力士正在其利川M10廠的一部分生産線轉換爲批量生産CMOS圖像傳感器(CIS)的生産線,同時減少2D NAND閃存的生産量。結果,于去年相比,明年的DRAM和NAND閃存的生産容量預計將(jiāng)減少。于今年相比,明年的投資額也將(jiāng)相當減少。

另外,SK海力士計劃,持續開(kāi)發(fā)新一代微細工程技術,并通過(guò)擴大高容量附加值産品的銷售來擴展其他産品組合,以在市場改善時實現更大的增長(cháng)。

SK海力士計劃將(jiāng)第二代10納米(1Y)DRAM的生産比重到明年末提高至10%初,并計劃對(duì)最近開(kāi)發(fā)的第三代10納米(1Z)工程的産品進(jìn)行批量生産。此外,該公司計劃積極應對(duì)LPDDR5和HBM2E市場。預計這(zhè)些産品將(jiāng)于明年被客戶積極采用。

公司將(jiāng)把96層4D NAND閃存産品的生産比重到年末擴大到10%中後(hòu)半,并推進(jìn)128層 4D NAND閃存的批量生産和銷售準備。此外,公司重點攻略高配置智能(néng)手機和SSD市場,預計SK海力士的NAND閃存銷售額中SSD所占的比重在第四季度將(jiāng)增加到30%。

SK海力士攸關者表示 :“我們將(jiāng)基于這(zhè)次市場低迷的經(jīng)驗,將(jiāng)把事(shì)業的波動性最小化。同時,加大努力實現可持續成(chéng)長(cháng)。”

■ 2019财年第三季度業績                         

SK海力士開(kāi)發(fā)第三代10納米DDR4 DRAM

SK海力士開(kāi)發(fā)第三代10納米DDR4 DRAM

10月21日,SK海力士宣布開(kāi)發(fā)适用第三代1Z納米的16Gb(Gigabits)DDR4(Double Data Rate 4) DRAM。

這(zhè)款實現了單一芯片标準内業界最大容量的16Gb,在一張晶圓中能(néng)生産的存儲量也是現存的DRAM内最大。于第二代1Y産品相比,該産品的生産效率提高了27%,并且可以在不适用超高價的EUV(極紫外光刻)曝光工藝的情況下進(jìn)行生産,結果具有成(chéng)本競争力。

該款1Z納米 DRAM還(hái)穩定支持最高3200Mbps的數據傳輸速率,這(zhè)是DDR4規格内最高速度。 功耗也顯着提高,與基于第二代8Gb産品的相同容量模組相比,將(jiāng)功耗降低了約40%。

特别是,第三代産品适用前一代生産工藝中從來沒(méi)使用過(guò)的新材料,將(jiāng)DRAM操作的關鍵要素靜電容量(Capacitance)最大化。此外,還(hái)引進(jìn)了新的設計技術,提高了動作穩定性。

DRAM 1Z 開(kāi)發(fā)事(shì)業TF長(cháng) 李廷燻表示:“第三代10納米級DDR4 DRAM擁有業界最高水平的容量和速度, 再加上功耗, 是最适合于購買高性能(néng)/高容量DRAM的客戶需求變化。計劃年内完成(chéng)批量生産,從明年開(kāi)始正式供應, 積極應對(duì)市場需求。”

另一方面(miàn),SK海力士計劃對(duì)于下一代移動DRAM LPDDR5 和 最高端DRAM HBM3等多種(zhǒng)應用領域擴大适用第三代10納米級微細工程技術。