近日，上海新陽在投資者互動平台上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機已完成(chéng)廠内安裝開(kāi)始調試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機預計12月底到貨。
上海新陽指出，ARF193nm光刻膠是芯片制造進(jìn)入90nm銅互聯制程後(hòu)最重要的主流光刻膠産品，一直是國(guó)内空白。公司研發(fā)該款光刻膠意在填補國(guó)内空白，實現芯片制造在關鍵工藝技術和材料技術的自主可控。經(jīng)過(guò)近三年的研發(fā)，關鍵技術已有重大突破，已從實驗室研發(fā)轉向(xiàng)産業研發(fā)。
光刻膠技術作爲上海新陽核心戰略突破口，上海新陽已經(jīng)确定在未來5-10年，將(jiāng)集中各種(zhǒng)資源，對(duì)國(guó)内尚屬空白的各類高端半導體光刻膠和光刻膠配套材料進(jìn)行研發(fā)，逐步形成(chéng)公司第三大核心技術-電子光刻技術。
目前，新引進(jìn)的技術專家團隊已到位，各品類研發(fā)在正常進(jìn)行，各項關鍵技術均有突破。其中，KRF光刻膠配套的光刻機已完成(chéng)廠内安裝開(kāi)始調試，預計明年上半年開(kāi)始中試。